در دو مقاله‌ی قبل راجع به فرآیند ساخت مدار مجتمع با استفاده از فناوری CMOS سخن گفتیم. همان طور که بیان کردیم، در گام اول به آماده‌سازی و پردازش ویفر می‌پردازیم و سپس در گام دوم، ویفر سیلیسیومی را با استفاده از فرآیندی به نام لیتوگرافی نوری به محدوده‌های موردنظر برای ساخت مدار مجتمع تقسیم می‌کنیم. در واقع، لیتوگرافی روشی است که ما با استفاده از آن لایه‌های مختلف یک مدار مجتمع را می‌سازیم. پس از لیتوگرافی مراحل اکسیداسیون، کاشت یونی، لایه‌نشانی و زُدایش نیز برای ساخت مدار مجتمع انجام می‌شود. ادامه...

در مقاله‌ي قبل آموختيم كه فرآيند ساخت مدار مجتمع را مي‌توان در چهار گام خلاصه كرد. گام اول را كه عبارت است از پردازش ويفر براي توليد يك زير بناي مناسب، در مقاله‌ي قبل به اختصار توضيح داديم. درادامه، به گام دوم كه ليتوگرافي نوري است مي‌پردازيم. ليتوگرافي نوري يا به اختصار ليتوگرافي،‌ فرآيندي شبيه عكاسي است. در اين فرآيند، نور يا پرتوهاي الكترومغناطيس ديگر نظير پرتوري فرابنفش (UV) با عبور از يك الگو يا ماسك به سطح ويفري كه درگام قبل تهيه شده، برخورد مي‌كند، و بدين ترتيب الگويي را كه بر روي ماسك طراحي شده به سطح ويفر منتقل مي‌کند. ادامه...

در آستانه عيد مبارک مبعث، اسامی برگزيدگان مرحله اول المپياد علوم و فناوری نانو اعلام شد. ادامه...

در مقاله‌هاي 1 تا 6 نانوالكترونيك با مفاهيم اوليه و پايه‌ي نانوالكترونيك آشنا شديم. در مقاله‌ي هفتم با بيان قانون مور گفتيم كه از زمان ساخت اولين ترانزيستور، ‌دانشمندان فيزيك ِ الكترونيك به دنبال كوچك‌تر كردن ابعاد ترانزيستور، يا به بيان ديگر، زيادتركردن تعداد ترانزيستور در فضاي ثابت بوده‌اند. اما گفتيم که حركت به سمت فناوري‌هاي كوچك‌مقياس نظير فناوري نانو محدوديت‌هايي دارد. براي اين كه با محدوديت‌هاي ساخت ترانزيستورها در مقياس نانو بيش‌تر آشنا شويم، ‌ابتدا بايد با فناوري ساخت ترانزيستورها در مدارهاي مجتمع آشنا شويم. در اين مقاله و چند مقاله‌ي بعد راجع به فناوري ساخت مدارهاي مجتمع سخن خواهیم گفت. ادامه...

در مقاله قبل، ضمن معرفي مفهوم فيلتر، در مورد انواع فيلتراسيون مانند ميکروفيلتراسيون، آلترافيلتراسيون، نانوفيلتراسيون و اسمز معکوس توضيح داده شد. در ادامه بحث، در اين مقاله به بررسي آب شيرين‌کن‌ها که بر اساس اسمز معکوس کار مي‌کنند خواهیم پرداخت. ادامه...